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安光所镀膜技术取得新进展

发布时间:2010-04-13

作者:罗晓乐 来源:

  日前,安光所光学工程中心通过对现有多层膜小型镀膜机600B进行技术改造调试,成功制备出口径Ф400mm多层全介质双波长(1064nm、532nm)高反膜。此外,光学工程中心还成功制备出憎水膜(防水膜)。两种镀膜效果良好。憎水膜镀制技术现已在安光所环境光学研究中心有关项目上得以应用,为该所相关项目提供了光学关键技术储备和技术支撑。

镀憎水膜的镜片

左为口径Ф400mm镀多层全介质双波长高反膜的镜片

 

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