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专利名称:一种聚变用低电导率液态氚增殖剂及其制备方法

文章来源: 发布时间: 2020-07-17

专利名称:一种聚变用低电导率液态氚增殖剂及其制备方法

申 请 号 

CN201510968390.6

申 请 日 

 2015.12.18

公开(公告)号

CN105405471B

公开(公告)日 

2017.07.11

申请(专利权)人 

中国科学院合肥物质科学研究院

发 明 人 

倪木一;蒋洁琼;张世超;孟孜;季翔

专利类型 

发明专利

摘 要 

本发明公开了一种聚变用低电导率液态氚增殖剂及其制备方法,该氚增殖剂为液态基体与弥散颗粒组成的混合物,电导率区间在1106s/m,按体积百分数,氚增殖剂包含如下组分:液态增殖剂基体60%?99.99%,弥散颗粒0.01%?40%,弥散颗粒材质采用碳化硅、或三氧化二铝、或氧化铍、或二氧化硅、或氧化铒、或硅酸锂、或正硅酸锂、或钛酸锂、或氧化锂、或偏铝酸锂、或锆酸锂、或上述二者或多者混合。其制备方法是:在带气氛保护的高温炉中,通过机械搅拌,将煅烧后的弥散颗粒分散于液态金属中。本发明氚增殖剂在保证良好氚增殖性能的前提下,有效的降低电导率,增强热导率,从而显著的降低液态金属氚增殖剂在强磁场下的磁流体动力学压降(MHD效应)

主权项 

一种聚变用低电导率液态氚增殖剂,其特征在于,该氚增殖剂为液态基体与弥散颗粒组成的混合物,电导率在1-106S/m之间,包含如下组分:液态增殖剂基体,弥散颗粒;

所述的液态增殖剂基体为金属锂(Li)、或锂锡(LiSn)、或液态铅锂共晶体(LiPb)、或其他含有锂的液态合金、或液态熔盐物质;

所述的弥散颗粒形式为纳米颗粒,或微颗粒,粒径范围在1nm1mm之间,材质为碳化硅(SiC)、或三氧化二铝(Al2O3)、或氧化铍(BeO)、或二氧化硅(SiO2)、或氧化铒(Er2O3)、或硅酸锂(Li2SiO3)、或正硅酸锂(Li4SiO4)、或钛酸锂(Li2TiO3)、或氧化锂(Li2O)、或偏铝酸锂(LiAlO2)、或锆酸锂(Li2ZrO3)、或上述二者或多者混合;

所述的液态增殖剂各组分所占体积百分数为:液态增殖剂基体60-99.99%,弥散颗粒0.01-40%;

所述聚变用低电导率液态氚增殖剂采用如下连续步骤制备:

(1)选用纳米颗粒或微颗粒;(2)将颗粒进行高温煅烧并同时利用惰性气体吹洗处理;(3)将颗粒表面进行改性处理;(4)在将煅烧处理后的颗粒与液态金属集体混合;(5)在带气氛保护或真空炉中,熔炼液态金属,温度范围200-1000℃;(6)超声振荡,并机械搅拌0.5-12小时,得到分散均匀的低电导率液态氚增殖剂。

IPC信息 

IPC主分类号 

G21B1/11

IPC分类号 

G21B1/11

· G 物理

 · G21 核物理;核工程

   · G21B 聚变反应堆(不可控聚变,其应用入G21J

  

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